شاركنا تاريخ ميلادك!
تاريخ الميلاد
تاريخ الميلاد المدخل غير مكتمل يرجى ادخال تاريخ ميلاد صحيح
×
Directed Self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing
3,015.00 جنيه
إستخدم طرق الدفع الإلكترونية لإستلام الطلب بدون تلامس

Directed Self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing

كن أول من يقيِّم هذا المنتج 

3,015.00 جنيه 

  - ستوفر -3,015.00 جنيه
الأسعار تشمل ضريبة القيمة المضافة  التفاصيل
رقم ال ISBN
9780081002506
الفئات
التكنولوجيا متناهية الصغر
الكاتب
Roel Gronheid. Paul Nealey
الناشر
Elsevier
الوصف:

  • The directed self-assembly (DSA) method of patterning for microelectronics uses polymer phase-separation to generate features of less than 20nm, with the positions of self-assembling materials externally guided into the desired pattern. Directed self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing reviews the design, production, applications and future developments needed to facilitate ...

اشحن الى القاهرة (تغيير المدينة)
احصل عليه الأربعاء ٢٨ أكتوبر
قطعة واحدة متوفرة فقط!

حالة السلعة:
جديدة
البائع:
FirstEdition-1ED (100% تقييم ايجابي)
ملاحظة البائع:
9780081002506 

معلومات المنتج

  •  

    المواصفات

    رقم ال ISBN
    9780081002506
    الفئات
    التكنولوجيا متناهية الصغر
    الرقم المميز للسلعة
    2724834692146
    المؤلفين
    الكاتب
    Roel Gronheid. Paul Nealey
    المؤلفين
    الناشر
    Elsevier
    رقم ال ISBN
    9780081002506
    الفئات
    التكنولوجيا متناهية الصغر
    الرقم المميز للسلعة
    2724834692146
    المؤلفين
    الكاتب
    Roel Gronheid. Paul Nealey
    المؤلفين
    الناشر
    Elsevier
    معلومات تقنية
    غلاف الكتاب
    غلاف عادي
    اللغات والبلدان
    لغة الكتاب
    العربية
    دي جي
    هل يتطلب هذا المنتج بطارية او يحتوي بطارية
    إقرأ المزيد
  •  

    الوصف:

    • The directed self-assembly (DSA) method of patterning for microelectronics uses polymer phase-separation to generate features of less than 20nm, with the positions of self-assembling materials externally guided into the desired pattern. Directed self-assembly of Block Co-polymers for
    • The directed self-assembly (DSA) method of patterning for microelectronics uses polymer phase-separation to generate features of less than 20nm, with the positions of self-assembling materials externally guided into the desired pattern. Directed self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing reviews the design, production, applications and future developments needed to facilitate the widescale adoption of this promising technology. Beginning with a solid overview of the physics and chemistry of block copolymer (BCP) materials, Part 1 covers the synthesis of new materials and new processing methods for DSA. Part 2 then goes on to outline the key modelling and characterization principles of DSA, reviewing templates and patterning using topographical and chemically modified surfaces, line edge roughness and dimensional control, x-ray scattering for characterization, and nanoscale driven assembly. Finally, Part 3 discusses application areas and related issues for DSA in nano-manufacturing, including for basic logic circuit design, the inverse DSA problem, design decomposition and the modelling and analysis of large scale, template self-assembly manufacturing techniques
 

تقييمات المستخدمين

0
لا يوجد تقييمات بعد
كن أول من يقيِّم هذا المنتج
قيِّم هذا المنتج:

إعلانات مُموَّلة لك

×

الرجاء تأكيد رقم هاتفك الجوال لإكمال عملية الشراء

سنقوم بإرسال رسالة نصية تحتوي على رمز التفعيل، الرجاء التأكد من رقم هاتفك الجوال ادناه، ثم انقر على زر "أرسل رمز التفعيل".